等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)。通常，物質(zhì)以固體、液體和氣體三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，它可以以第四種狀態(tài)存在，例如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣電離層中的物質(zhì)。這種物質(zhì)的狀態(tài)稱為等離子體態(tài)，也稱為物質(zhì)的第四態(tài)。

　　等離子體中存在以下物質(zhì)：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離的原子和分子；分子解離反應過程中產(chǎn)生的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)整體保持電中性。
 

　　與濕式清洗相比，Harrick等離子清洗機的優(yōu)點如下：

　　1、等離子清洗后，清洗后的物體非常干燥，無需干燥即可送入下道工序。

　　2、不使用三氯乙烯ODS有害溶劑，清洗后不會產(chǎn)生有害污染物。是一種有利于環(huán)境保護的綠色清潔方式。

　　3、可以深入到物體的微孔和凹陷處，完成清潔任務，無需考慮被清潔物體形狀的影響。

　　4、Harrick等離子清洗機整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成，因此具有效率高的特點。

　　5、等離子清洗的技術特點是可以處理不同的基材而不管處理對象。無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等聚合物）都可以很好地進行等離子體處理。因此，它特別適用于耐熱和耐溶劑的基材。此外，可以選擇性地清潔材料的整體、局部或復雜結構。

　　6、在清洗去污的同時，還可以改變材料本身的表面性質(zhì)。如提高表面的潤濕性，提高薄膜的附著力等。

　　7、自動化程度高；Harrick等離子清洗機采用高精度控制裝置，時間控制精度非常高；正確的等離子清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，保證表面質(zhì)量；由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清潔后的表面不會受到二次污染。